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高溫高壓反應測試系統(tǒng)適用于光化學高壓反應、二氧化碳CO2還原、二氧化碳CO2還原制甲醇二氧化碳CO2還原制甲烷CH4、氮氧化物NOx的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域。光催化反應，F(xiàn)ischer-Tropsch反應，加氫反應，聚合反應，均相反應及二氧化碳超臨界反應等。體材質(zhì)：不銹鋼316L/純鈦/哈氏合金材質(zhì)(可選)●設計工作溫度：250℃/350℃(可選) ●設計工作壓力：10MPa。
訪問次數(shù)：1235 產(chǎn)品價格：面議 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家 更新日期：2023-12-23
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